新材料的文献综述有哪些

新材料的文献综述有哪些

关于新材料的文献综述，特别是气相沉积技术及其在耐磨涂层上的应用，以下是一些关键点：

气相沉积技术概述

气相沉积技术包括化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）。

化学气相沉积（CVD）

热CVD：利用高温使气体发生化学反应生成薄膜。

等离子体辅助化学气相沉积（PACVD）：使用等离子体激活气体，促进化学反应。

金属有机化学气相沉积（MOCVD）：使用金属有机化合物作为反应气体。

激光辅助化学气相沉积（LCVD）：利用激光激发化学反应生成薄膜。

物理气相沉积（PVD）

溅射镀膜：包括直流二极溅射、射频（RF）溅射、三极溅射和磁控溅射技术。

磁控溅射：利用磁场控制二次电子运动，提高溅射速率和沉积效率。

耐磨涂层应用

耐磨涂层主要包括以下类型：

共价键结合的涂层：如金刚石、立方氮化硼、SiC、TiN、AlN和Si3N4等。